其他產(chǎn)品及廠家
德國hanchen 液壓缸 系列120產(chǎn)品介紹技術(shù)參數(shù)：1.孔徑 25 毫米至 300 毫米2.工作壓力高達(dá)150 bar3.對于孔徑200及以上的，高達(dá)200 bar4.圓頭圓柱設(shè)計5.各種安裝方法6.磨光和鍍鉻活塞桿7.測試壓力 ＝ 1.5 x 最大工作壓力8.可升級為傳感器技術(shù)：位置傳感器、力傳感器、接近開關(guān)等
更新時間:2025-12-27
日本rigaku x射線熒光分析儀 waferx 310, 通過x射線以大角度照射在鍍膜的硅片樣品上,產(chǎn)生鍍膜 樣品的相應(yīng)特征x射線的方法，進(jìn)而分析測量硅片樣品的 鍍膜厚度。
更新時間:2025-12-27
硅片金屬雜質(zhì)分析系統(tǒng) expert,全自動汽車掃描系統(tǒng)與真空二次離子質(zhì)譜法（vpd-icp-ms）結(jié)合，為硅片金屬雜質(zhì)分析提供了高效的解決方案。系統(tǒng)具備多個型號，包括適用于實驗室和工廠自動化的expert_lab、expert_ps和expert_fab。這些系統(tǒng)支持多種掃描模式，如全掃描、徑向掃描和傾斜掃描，可實現(xiàn)從大容量蝕刻到深度輪廓測量的全 面分析。
更新時間:2025-12-27
lagm激光剝蝕多通道原子吸收光譜系統(tǒng)采用飛秒激光和電流計鏡，可精確燒蝕 300 毫米晶圓樣品，無需小型封閉腔室。系統(tǒng)配備雙注射器模型 msag_ds，支持標(biāo)準(zhǔn)加入法進(jìn)行定量分析，具備點和面傾斜度、輪廓及雜質(zhì)分析功能。系統(tǒng)能全自動操作，支持多種分析模式如全掃描、斑點、直線、塊模式及深度剖面模式，適用于晶圓和非晶圓樣品的全 面分析。
更新時間:2025-12-27
msag金屬標(biāo)準(zhǔn)氣霧劑生成系統(tǒng)，是一種用于納米顆粒分析及直接氣體分析的重要工具，尤其適用于電感耦合等離子體質(zhì)譜法（icp-ms）。該設(shè)備能夠以0至3μl/min的速度將混合金屬標(biāo)準(zhǔn)溶液引入霧化器，確保了高靈敏度和準(zhǔn)確性。通過msgg裝置監(jiān)測icp-ms靈敏度變化，并利用鉬氣態(tài)標(biāo)準(zhǔn)作為內(nèi)標(biāo)。
更新時間:2025-12-27
csi 連續(xù)化學(xué)品檢測系統(tǒng)：化學(xué)敏感儀器監(jiān)測半導(dǎo)體晶圓廠使用的化學(xué)物質(zhì)，通過連續(xù)化學(xué)采樣檢測（csi）系統(tǒng)監(jiān)測微量金屬雜質(zhì)，以避免器件故障。系統(tǒng)采用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（icp-ms）對化學(xué)品進(jìn)行24/7的連續(xù)監(jiān)測，包括液相（lt）和氣溶膠相（at）兩種樣品運輸方式。l
更新時間:2025-12-27
化學(xué)分析實驗室采用連續(xù)化學(xué)采樣檢測系統(tǒng)（csi）監(jiān)測半導(dǎo)體工藝中的化學(xué)品，以檢測微量金屬雜質(zhì)。該系統(tǒng)使用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（icp-ms）進(jìn)行24/7的連續(xù)監(jiān)測，確保化學(xué)品在運輸和更換過濾器過程中不受污染。在線接口軟件（ois）控制閥門、自動進(jìn)樣器和icp-ms，實現(xiàn)自動校準(zhǔn)和質(zhì)量控制。該系統(tǒng)能夠生成濃度和計數(shù)趨勢圖，并具備自動重新分析功能。
更新時間:2025-12-27
氣體電離探測器（ged）是一種用于測量氣體中金屬顆粒濃度的技術(shù)，尤其適用于半導(dǎo)體行業(yè)中特殊氣體的分析。該系統(tǒng)通過一個高效的膜來交換氣體，使得樣品氣體中的金屬顆粒能在無需預(yù)處理的情況下直接引入到電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（icp-ms）中進(jìn)行高靈敏度分析。
更新時間:2025-12-27
asas ii自動化標(biāo)準(zhǔn)添加系統(tǒng)通過自動制備校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)溶液，提升了電感耦合等離子體（icp）分析的效率與精度。該系統(tǒng)采用非接觸式光流傳感器和高精度注射泵，實現(xiàn)微量標(biāo)準(zhǔn)溶液的精 準(zhǔn)添加。其無閥門設(shè)計及全氟聚合物材質(zhì)確保了系統(tǒng)的高效與耐用性。
更新時間:2025-12-27
自動進(jìn)樣稀釋模塊asdm專為icp自動進(jìn)樣器設(shè)計，支持2至1000倍的樣品溶液稀釋，配備兩種型號以適應(yīng)不同溶液類型。該模塊可自動添加標(biāo)準(zhǔn)溶液，并能同時清洗稀釋探頭及準(zhǔn)備下一個稀釋樣品。asdm提供10ml注射器進(jìn)行2-20倍稀釋，或兩支注射器進(jìn)行50-1000倍稀釋。
更新時間:2025-12-27
德國eberl 多波束電子束 octoplus 1000, 用于大 12 英寸基底 sige 外延生長的 mbe 系統(tǒng)
更新時間:2025-12-27
德國 eberl 的多波束電子束octoplus 1000系統(tǒng)，專為最大12英寸sige外延生長設(shè)計，適用于mbe（分子束外延）工藝。該系統(tǒng)提供高效、高精度的沉積技術(shù)，確保高質(zhì)量薄膜的生長，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。
更新時間:2025-12-27
. 在垂直入射角的無接觸、光學(xué)反射測量，表征薄膜和大塊材料.光譜范圍從200到1000 nm. 功能強大的、獨特的分析軟件包ftpadv expert. 高穩(wěn)定的氘燈和鹵素鎢燈光源. 高精度的樣品準(zhǔn)直，帶光學(xué)自動準(zhǔn)直透鏡act和顯微鏡
更新時間:2025-12-27
盒式裝載紫外線臭氧清洗設(shè)備 uv-300hc雙盒式生產(chǎn)系統(tǒng)，是一款高性能的盒式裝載uv臭氧清洗機，用于生產(chǎn)。這個系統(tǒng)有2個裝載盒，可以達(dá)到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的獨特組合，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、sic、gaas和inp）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:2025-12-27
紫外線臭氧清洗機 uv-300h，200 - 300 nm/min的高灰化率,是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的獨特組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、sic、gaas、inp）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:2025-12-27
日本samco紫外臭氧清洗機 uv-1, 是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺加熱獨特地結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、gaas、inp、sic）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:2025-12-27
eda 407專為光電子器件的質(zhì)量控制而設(shè)計■ 從密封封裝中進(jìn)行精確氣體分析■ 氣體成分的直觀分析■ 簡明易用的軟件套件■ 全自動化的氣體進(jìn)樣系統(tǒng)
更新時間:2025-12-27
高粘度樣品用液中粒子傳感器xp-65/ks-42c（改）無需稀釋即可測量原液（可達(dá)6000 cp）。支持在線和離線測量。廣泛的可測粒徑范圍xp-65：0.2μm～1.0μm，ks-42c（改）：0.5μm～20μm
更新時間:2025-12-27
tl系列激光開封機通過激光能量的調(diào)節(jié)控制，去除封裝電子器件的塑膠層。用于觀察電子器件內(nèi)部焊線偏移，焊線交叉短路，倒裝焊焊球虛焊，倒裝焊焊球短路，焊線斷裂，焊線脫離等封裝缺陷。
更新時間:2025-12-27
美rkd激光開封機ra-9000簡單方便進(jìn)行半導(dǎo)體塑料封裝去屑，露出基板上的引線框架。完全圖形化的使用者操作介面，簡易的進(jìn)行控制操作。輕易達(dá)成整面或定點，平整的塑料開封作業(yè)。大量減低化學(xué)開封的用酸量及時間，並將開封成功率地大比率提升。
更新時間:2025-12-27
德國pva tepla 超聲波掃描顯微鏡 sam 301, 利用材料內(nèi)部組織因密度不同而對超聲波聲阻抗、超聲波吸收與反射程度產(chǎn)生差異的特點，從而實現(xiàn)對材料內(nèi)部缺陷的定性分析，在半導(dǎo)體封裝及材料等行業(yè)中得到廣泛應(yīng)用。可分辨出材料、元器件內(nèi)部的裂紋、空洞、氣泡、分層缺陷、雜質(zhì)等；廣泛用于測試各種元器件、smt焊接器件、igbt器件、mems器件、晶圓鍵合等內(nèi)部缺陷的無損檢測
更新時間:2025-12-27
fr-es 是一款輕巧便捷的膜厚測量分析系統(tǒng), 能測量各種厚度范圍的透明和半透明涂層以及薄金屬層.fr-es 是 實驗室里 的 理想 配置。fr-es 可以在各種光譜范圍內(nèi)執(zhí)行反射率和透射率測量。
更新時間:2025-12-27
超高純氫氣發(fā)生器 （免維護(hù)版柜式機）hxcn-h-m0.6,hxcn-h-m1.2,hxcn-h-m5,hxcn-h-m10，采用pem技術(shù)電解純水制氫，無需用堿直接電解純水，無腐蝕無污染。 國外高 端制氫機優(yōu)先替代者 氫氣純度高(99.9999％)5個9到7個9可選，流量穩(wěn)定，壓力采用一體化的控制。
更新時間:2025-12-27
實驗室氫氣發(fā)生器 （非免維護(hù)臺式機）,采用領(lǐng)先業(yè)內(nèi)pem技術(shù)電解純水制氫，無需用堿，無腐蝕無污染。 氫氣純度高99.999％，流量穩(wěn)定，壓力采用一體化的控制.
更新時間:2025-12-27
華欣創(chuàng)能實驗室氫氣發(fā)生器 是一款 專為gc、總烴分析儀等小流量需求場景 設(shè)計的高效、安全制氫設(shè)備。用于gc載 氣，也可用做fid和fpd等檢測器的燃燒 氣。
更新時間:2025-12-27
簡介：載流子遷移率測量系統(tǒng)paios主要用于太陽能電池在穩(wěn)態(tài)，瞬態(tài)以及交流條件下的光電性能測量（載流子遷移率測量photo-celiv，瞬態(tài)光電流測量tpc、瞬態(tài)光電性能測量tpv、強度調(diào)制光電壓譜i
更新時間:2025-12-27
桌上型hmds烘箱，小型hmds真空烤箱采用hmds涂布方法改變晶圓表面的親水性，從而增大晶圓表面的接觸角），增強光刻膠和晶圓的粘附力。
更新時間:2025-12-27
硅烷沉積系統(tǒng) 硅烷氣相沉積設(shè)備 真空硅烷涂膠機是一種用于硅烷（siih?）作為前驅(qū)體的薄膜沉積設(shè)備，主要用于半導(dǎo)體、納米壓印脫模工藝、光伏（太陽能電池）、顯示面板、玻璃、陶瓷納米材料等領(lǐng)域的材料制備。硅烷（sih?）因其高反應(yīng)性和低溫沉積特性，成為沉積非晶硅（a-si）、微晶硅（μc-si）、氮化硅（sin?）和氧化硅（sio?）等薄膜的關(guān)鍵化學(xué)品。
更新時間:2025-12-27
多電磁鐵實驗室矢量電磁場水冷式或風(fēng)冷磁場設(shè)備電磁鐵為四結(jié)構(gòu)的，軛鐵八邊形，氣隙可調(diào)，柱直徑50mm，磁直徑25mm，四在同一平面；可水平或45度角放置。
更新時間:2025-12-27
變溫教學(xué)霍爾測試系統(tǒng)霍爾效應(yīng)教學(xué)實驗儀器 本系統(tǒng)由jh50變溫教學(xué)霍爾測試系統(tǒng)、tesk301控溫儀、液氮恒溫器和轉(zhuǎn)向磁體四個部分組成，可完成在不同溫度條件下測量霍爾片樣品霍爾效應(yīng)的教學(xué)實驗。該系統(tǒng)可與計算機連接，配合相應(yīng)的軟件實現(xiàn)計算機實時數(shù)據(jù)采集，也可配合我公司其他設(shè)備使用。
更新時間:2025-12-27
偶聯(lián)劑涂布機 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)硅烷偶聯(lián)劑應(yīng)用方法指通過表面預(yù)處理方式,改善材料界面性能的技術(shù)，其核心機制依賴于硅烷分子的水解縮合及與基材的化學(xué)鍵合作用.氣相沉積法是一種在干燥非質(zhì)子環(huán)境下實現(xiàn)硅烷單分子層沉積的關(guān)鍵技術(shù)，廣泛應(yīng)用于材料表面改性、電子封裝和能源材料等領(lǐng)域.
更新時間:2025-12-27
智能型無塵無氧烘箱 高溫氮氣無氧pi烤箱 pi固化爐電子膠體固化：銀膠/bcb膠/光刻膠高溫固化（300-450℃）晶圓加工：退火處理、pi膜烘烤（±1℃波動精度）陶瓷燒結(jié)：電子陶瓷材料無塵烘干（class100潔凈環(huán)境
更新時間:2025-12-27
真空存儲柜 真空干燥柜 真空氮氣柜適用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體，電子產(chǎn)品（半導(dǎo)體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、金屬制品、厭氧產(chǎn)品、易氧化產(chǎn)品等
更新時間:2025-12-27
硅烷沉積設(shè)備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米壓印抗粘設(shè)備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實現(xiàn)結(jié)構(gòu)較好的轉(zhuǎn)移,復(fù)制.
更新時間:2025-12-27
大學(xué)實驗室磁場發(fā)生裝置矢量多電磁鐵 主要應(yīng)用于多磁環(huán)充磁、徑向梯度磁場、旋轉(zhuǎn)磁場磁導(dǎo)向等多種應(yīng)用，按用戶的使用要求設(shè)計制作，該種類型的電磁鐵能夠很好的與客戶設(shè)計的磁場平臺兼容。
更新時間:2025-12-27
實驗室矢量電磁鐵多磁場發(fā)生器多水冷式或風(fēng)冷、具有視野開闊、磁場強度高、磁場強度大小調(diào)節(jié)方便的特點
更新時間:2025-12-27
多電磁鐵矢量磁源發(fā)生器物理電磁學(xué)實驗在小氣隙時用于鐵氧體產(chǎn)品的充磁，與磁性樣品產(chǎn)品的磁化處理。
更新時間:2025-12-27
hmds氣相成底膜烘箱 真空hmds氣相烘箱應(yīng)用硅片、磷化銦lnp、砷化鎵gaas、鈮酸鋰linbo?、硫化鋅zns、掩膜版、玻璃、石英片、藍(lán)寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導(dǎo)體材料等。
更新時間:2025-12-27
本系統(tǒng)通過193的脈沖激光器或者等離子體光源+單色儀的連續(xù)193光源，對器件的光電流響應(yīng)進(jìn)行測量，測量速度約4khz，同時通過標(biāo)準(zhǔn)探測器對激光強度波動進(jìn)行測量，對結(jié)果進(jìn)行校正。
更新時間:2025-12-27
深紫外超寬禁帶半導(dǎo)體熒光測試系統(tǒng)，基于我司20年左右的第三代半導(dǎo)體表征測試經(jīng)驗，可以有效地對寬禁帶與超寬禁帶半導(dǎo)體材料例如aln和algan等進(jìn)行熒光激發(fā)
更新時間:2025-12-27
?產(chǎn)品名稱?pmma 950k（，分子量950,000）?類型?正性電子束光刻膠?典型膜厚?100–500 nm（依旋涂轉(zhuǎn)速與濃度調(diào)節(jié)）?曝光機制?電子束誘導(dǎo)主鏈斷裂，形成可溶性低聚物?顯影液?mibk:ipa（1:3）或純mibk?分辨率??≤10 nm?（理論極限），實測可達(dá)?20–50 nm?線寬?
更新時間:2025-12-27
?典型膜厚?0.4–2.7 μm?曝光波長?i-line（365 nm）?極限分辨率??≤0.5 μm?（500 nm）線寬，適用于高精度圖形轉(zhuǎn)移?顯影液?2.38％ tmah水溶液，非有機溶劑體系?粘附性?，可直接涂布于sio?、si、金屬表面，無需額外底膠?抗蝕刻性?中等，適用于金屬剝離（lift-off）工藝，不適用于高選擇比干法蝕刻
更新時間:2025-12-27
該材料在?標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體濕法工藝流程?中，經(jīng)受?多次循環(huán)化學(xué)處理?后仍保持?結(jié)構(gòu)完整性與電絕緣性?，其化學(xué)穩(wěn)定性源于?高度交聯(lián)的芳香環(huán)聚合物網(wǎng)絡(luò)?，該結(jié)構(gòu)在高溫與強極性溶劑中均不發(fā)生解聚。
更新時間:2025-12-27
需求激增?：5g/6g、sic/gan功率器件、chiplet封裝推動bcb年需求增速超25％；?環(huán)保壓力?：nmp去膠溶劑受限，推動?水基bcb去除劑?研發(fā)，但尚處實驗室階段；?技術(shù)演進(jìn)?：bcb正逐步替代pspi與pi，成為封裝介電層的?黃準(zhǔn)?。
更新時間:2025-12-27
?bcb3022-35 屬于?熱固化型負(fù)性光刻膠?，其核心優(yōu)勢在于固化后形成?高度交聯(lián)的芳香族聚合物結(jié)構(gòu)?，賦予其的?電絕緣性、化學(xué)惰性與光學(xué)透明性?，是傳統(tǒng)聚酰亞胺（pi）和pspi的高性能替代方案。
更新時間:2025-12-27
e-beam 電子束光刻膠光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用
更新時間:2025-12-26
最新產(chǎn)品
- C98043-A1800-L 板卡 2025/12/27 22:00:07
- NGX800 錄音卡 2025/12/27 21:59:14
- V4297A1013 安全關(guān)閉閥 2025/12/27 21:58:32
- TVME200-10 控制卡 2025/12/27 21:56:19
- AMC-VS-X2 閥 2025/12/27 21:55:43
- 85002 模塊 2025/12/27 21:55:11
- A06B-6220-H011#H600 伺服驅(qū)動 2025/12/27 21:54:23
- RHK412B 繼電器 2025/12/27 21:51:34
- 9AC2112-8BA12-0KA1 模塊 2025/12/27 21:51:00
- su-8 2000系列阻燃高彈性泡沫聚酯光刻膠安全環(huán)保耐用美國光刻膠 2025/12/27 19:51:44
- 人纖溶酶/纖維蛋白溶酶(PL/Fbn)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:50:54
- 人補體片斷5a(C5a)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:50:17
- 小鼠可溶性肌球蛋白重鏈1(sMHC-1)ElisaKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:49:55
- 大鼠γ干擾素(IFN-γ)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:49:19
- 豬流感病毒A(FLUA)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:48:39
- 小鼠凝血酶受體(TR)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:48:20
- 小鼠乙型肝炎表面抗原(HBsAg)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:47:46
- 小鼠煙酰胺腺嘌呤二核苷酸磷酸(NADPH)ELISAKit2025科研試劑包郵 2025/12/27 17:47:38
- 雞C反應(yīng)蛋白(CRP)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:47:26
- 大鼠胰蛋白酶(trypsin)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:46:51
- 大鼠基質(zhì)金屬蛋白酶8/中性粒細(xì)胞膠原酶(MMP-8)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:46:34
- 大鼠熱休克蛋白70(HSP-70)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:46:01
- 大鼠C反應(yīng)蛋白(CRP)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:45:18
- 大鼠c-junELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:45:00
- 大鼠白介素2可溶性受體α鏈(IL-2sRα/CD25)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:44:35
- 人髓系細(xì)胞觸發(fā)受體-1(TREM-1)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:44:09
- 大鼠髓過氧化物酶特異性抗中性粒細(xì)胞胞質(zhì)抗體IgG(MPO-ANCAIgG)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:43:52
- 大鼠維生素D3(VD3)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:43:15
- 豚鼠卵清蛋白特異性IgG(OVAsIgG)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:42:48
- 大鼠載脂蛋白A1(apo-A1)ELISAKit2025科研試劑現(xiàn)貨 2025/12/27 17:42:21