其他產(chǎn)品及廠家
. 在垂直入射角的無接觸、光學(xué)反射測(cè)量，表征薄膜和大塊材料.光譜范圍從200到1000 nm. 功能強(qiáng)大的、獨(dú)特的分析軟件包ftpadv expert. 高穩(wěn)定的氘燈和鹵素鎢燈光源. 高精度的樣品準(zhǔn)直，帶光學(xué)自動(dòng)準(zhǔn)直透鏡act和顯微鏡
更新時(shí)間:2025-12-27
盒式裝載紫外線臭氧清洗設(shè)備 uv-300hc雙盒式生產(chǎn)系統(tǒng)，是一款高性能的盒式裝載uv臭氧清洗機(jī)，用于生產(chǎn)。這個(gè)系統(tǒng)有2個(gè)裝載盒，可以達(dá)到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的獨(dú)特組合，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、sic、gaas和inp）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2025-12-27
紫外線臭氧清洗機(jī) uv-300h，200 - 300 nm/min的高灰化率,是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機(jī)。通過滑動(dòng)抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的獨(dú)特組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、sic、gaas、inp）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2025-12-27
日本samco紫外臭氧清洗機(jī) uv-1, 是一款緊湊型臺(tái)式紫外線臭氧清洗機(jī)。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺(tái)加熱獨(dú)特地結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、gaas、inp、sic）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2025-12-27
eda 407專為光電子器件的質(zhì)量控制而設(shè)計(jì)■ 從密封封裝中進(jìn)行精確氣體分析■ 氣體成分的直觀分析■ 簡(jiǎn)明易用的軟件套件■ 全自動(dòng)化的氣體進(jìn)樣系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-12-27
高粘度樣品用液中粒子傳感器xp-65/ks-42c（改）無需稀釋即可測(cè)量原液（可達(dá)6000 cp）。支持在線和離線測(cè)量。廣泛的可測(cè)粒徑范圍xp-65：0.2μm～1.0μm，ks-42c（改）：0.5μm～20μm
更新時(shí)間:2025-12-27
tl系列激光開封機(jī)通過激光能量的調(diào)節(jié)控制，去除封裝電子器件的塑膠層。用于觀察電子器件內(nèi)部焊線偏移，焊線交叉短路，倒裝焊焊球虛焊，倒裝焊焊球短路，焊線斷裂，焊線脫離等封裝缺陷。
更新時(shí)間:2025-12-27
美rkd激光開封機(jī)ra-9000簡(jiǎn)單方便進(jìn)行半導(dǎo)體塑料封裝去屑，露出基板上的引線框架。完全圖形化的使用者操作介面，簡(jiǎn)易的進(jìn)行控制操作。輕易達(dá)成整面或定點(diǎn)，平整的塑料開封作業(yè)。大量減低化學(xué)開封的用酸量及時(shí)間，並將開封成功率地大比率提升。
更新時(shí)間:2025-12-27
德國(guó)pva tepla 超聲波掃描顯微鏡 sam 301, 利用材料內(nèi)部組織因密度不同而對(duì)超聲波聲阻抗、超聲波吸收與反射程度產(chǎn)生差異的特點(diǎn)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)材料內(nèi)部缺陷的定性分析，在半導(dǎo)體封裝及材料等行業(yè)中得到廣泛應(yīng)用?？煞直娉霾牧?、元器件內(nèi)部的裂紋、空洞、氣泡、分層缺陷、雜質(zhì)等；廣泛用于測(cè)試各種元器件、smt焊接器件、igbt器件、mems器件、晶圓鍵合等內(nèi)部缺陷的無損檢測(cè)
更新時(shí)間:2025-12-27
fr-es 是一款輕巧便捷的膜厚測(cè)量分析系統(tǒng), 能測(cè)量各種厚度范圍的透明和半透明涂層以及薄金屬層.fr-es 是 實(shí)驗(yàn)室里 的 理想 配置。fr-es 可以在各種光譜范圍內(nèi)執(zhí)行反射率和透射率測(cè)量。
更新時(shí)間:2025-12-27
超高純氫氣發(fā)生器 （免維護(hù)版柜式機(jī)）hxcn-h-m0.6,hxcn-h-m1.2,hxcn-h-m5,hxcn-h-m10，采用pem技術(shù)電解純水制氫，無需用堿直接電解純水，無腐蝕無污染。 國(guó)外高 端制氫機(jī)優(yōu)先替代者 氫氣純度高(99.9999％)5個(gè)9到7個(gè)9可選，流量穩(wěn)定，壓力采用一體化的控制。
更新時(shí)間:2025-12-27
實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 （非免維護(hù)臺(tái)式機(jī)）,采用領(lǐng)先業(yè)內(nèi)pem技術(shù)電解純水制氫，無需用堿，無腐蝕無污染。 氫氣純度高99.999％，流量穩(wěn)定，壓力采用一體化的控制.
更新時(shí)間:2025-12-27
華欣創(chuàng)能實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 是一款 專為gc、總烴分析儀等小流量需求場(chǎng)景 設(shè)計(jì)的高效、安全制氫設(shè)備。用于gc載 氣，也可用做fid和fpd等檢測(cè)器的燃燒 氣。
更新時(shí)間:2025-12-27
簡(jiǎn)介：載流子遷移率測(cè)量系統(tǒng)paios主要用于太陽能電池在穩(wěn)態(tài)，瞬態(tài)以及交流條件下的光電性能測(cè)量（載流子遷移率測(cè)量photo-celiv，瞬態(tài)光電流測(cè)量tpc、瞬態(tài)光電性能測(cè)量tpv、強(qiáng)度調(diào)制光電壓譜i
更新時(shí)間:2025-12-27
桌上型hmds烘箱，小型hmds真空烤箱采用hmds涂布方法改變晶圓表面的親水性，從而增大晶圓表面的接觸角），增強(qiáng)光刻膠和晶圓的粘附力。
更新時(shí)間:2025-12-27
硅烷沉積系統(tǒng) 硅烷氣相沉積設(shè)備 真空硅烷涂膠機(jī)是一種用于硅烷（siih?）作為前驅(qū)體的薄膜沉積設(shè)備，主要用于半導(dǎo)體、納米壓印脫模工藝、光伏（太陽能電池）、顯示面板、玻璃、陶瓷納米材料等領(lǐng)域的材料制備。硅烷（sih?）因其高反應(yīng)性和低溫沉積特性，成為沉積非晶硅（a-si）、微晶硅（μc-si）、氮化硅（sin?）和氧化硅（sio?）等薄膜的關(guān)鍵化學(xué)品。
更新時(shí)間:2025-12-27
多電磁鐵實(shí)驗(yàn)室矢量電磁場(chǎng)水冷式或風(fēng)冷磁場(chǎng)設(shè)備電磁鐵為四結(jié)構(gòu)的，軛鐵八邊形，氣隙可調(diào)，柱直徑50mm，磁直徑25mm，四在同一平面；可水平或45度角放置。
更新時(shí)間:2025-12-27
變溫教學(xué)霍爾測(cè)試系統(tǒng)霍爾效應(yīng)教學(xué)實(shí)驗(yàn)儀器 本系統(tǒng)由jh50變溫教學(xué)霍爾測(cè)試系統(tǒng)、tesk301控溫儀、液氮恒溫器和轉(zhuǎn)向磁體四個(gè)部分組成，可完成在不同溫度條件下測(cè)量霍爾片樣品霍爾效應(yīng)的教學(xué)實(shí)驗(yàn)。該系統(tǒng)可與計(jì)算機(jī)連接，配合相應(yīng)的軟件實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)采集，也可配合我公司其他設(shè)備使用。
更新時(shí)間:2025-12-27
偶聯(lián)劑涂布機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)硅烷偶聯(lián)劑應(yīng)用方法指通過表面預(yù)處理方式,改善材料界面性能的技術(shù)，其核心機(jī)制依賴于硅烷分子的水解縮合及與基材的化學(xué)鍵合作用.氣相沉積法是一種在干燥非質(zhì)子環(huán)境下實(shí)現(xiàn)硅烷單分子層沉積的關(guān)鍵技術(shù)，廣泛應(yīng)用于材料表面改性、電子封裝和能源材料等領(lǐng)域.
更新時(shí)間:2025-12-27
智能型無塵無氧烘箱 高溫氮?dú)鉄o氧pi烤箱 pi固化爐電子膠體固化：銀膠/bcb膠/光刻膠高溫固化（300-450℃）晶圓加工：退火處理、pi膜烘烤（±1℃波動(dòng)精度）陶瓷燒結(jié)：電子陶瓷材料無塵烘干（class100潔凈環(huán)境
更新時(shí)間:2025-12-27
硅烷沉積設(shè)備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米壓印抗粘設(shè)備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)較好的轉(zhuǎn)移,復(fù)制.
更新時(shí)間:2025-12-27
大學(xué)實(shí)驗(yàn)室磁場(chǎng)發(fā)生裝置矢量多電磁鐵 主要應(yīng)用于多磁環(huán)充磁、徑向梯度磁場(chǎng)、旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)磁導(dǎo)向等多種應(yīng)用，按用戶的使用要求設(shè)計(jì)制作，該種類型的電磁鐵能夠很好的與客戶設(shè)計(jì)的磁場(chǎng)平臺(tái)兼容。
更新時(shí)間:2025-12-27
實(shí)驗(yàn)室矢量電磁鐵多磁場(chǎng)發(fā)生器多水冷式或風(fēng)冷、具有視野開闊、磁場(chǎng)強(qiáng)度高、磁場(chǎng)強(qiáng)度大小調(diào)節(jié)方便的特點(diǎn)
更新時(shí)間:2025-12-27
多電磁鐵矢量磁源發(fā)生器物理電磁學(xué)實(shí)驗(yàn)在小氣隙時(shí)用于鐵氧體產(chǎn)品的充磁，與磁性樣品產(chǎn)品的磁化處理。
更新時(shí)間:2025-12-27
hmds氣相成底膜烘箱 真空hmds氣相烘箱應(yīng)用硅片、磷化銦lnp、砷化鎵gaas、鈮酸鋰linbo?、硫化鋅zns、掩膜版、玻璃、石英片、藍(lán)寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導(dǎo)體材料等。
更新時(shí)間:2025-12-27
本系統(tǒng)通過193的脈沖激光器或者等離子體光源+單色儀的連續(xù)193光源，對(duì)器件的光電流響應(yīng)進(jìn)行測(cè)量，測(cè)量速度約4khz，同時(shí)通過標(biāo)準(zhǔn)探測(cè)器對(duì)激光強(qiáng)度波動(dòng)進(jìn)行測(cè)量，對(duì)結(jié)果進(jìn)行校正。
更新時(shí)間:2025-12-27
深紫外超寬禁帶半導(dǎo)體熒光測(cè)試系統(tǒng)，基于我司20年左右的第三代半導(dǎo)體表征測(cè)試經(jīng)驗(yàn)，可以有效地對(duì)寬禁帶與超寬禁帶半導(dǎo)體材料例如aln和algan等進(jìn)行熒光激發(fā)
更新時(shí)間:2025-12-27
?bcb3022-35 屬于?熱固化型負(fù)性光刻膠?，其核心優(yōu)勢(shì)在于固化后形成?高度交聯(lián)的芳香族聚合物結(jié)構(gòu)?，賦予其的?電絕緣性、化學(xué)惰性與光學(xué)透明性?，是傳統(tǒng)聚酰亞胺（pi）和pspi的高性能替代方案。
更新時(shí)間:2025-12-27
?產(chǎn)品名稱?pmma 950k（，分子量950,000）?類型?正性電子束光刻膠?典型膜厚?100–500 nm（依旋涂轉(zhuǎn)速與濃度調(diào)節(jié)）?曝光機(jī)制?電子束誘導(dǎo)主鏈斷裂，形成可溶性低聚物?顯影液?mibk:ipa（1:3）或純mibk?分辨率??≤10 nm?（理論極限），實(shí)測(cè)可達(dá)?20–50 nm?線寬?
更新時(shí)間:2025-12-27
e-beam 電子束光刻膠光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用
更新時(shí)間:2025-12-26
抗nr5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí)，nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。
更新時(shí)間:2025-12-26
5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí)，nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。
更新時(shí)間:2025-12-26
r7-250pnr7-1000pnr7-1500pnr7-3000pnr7-6000pnr5-8000厚度0.2μm - 0.6μm0.7μm - 2.1μm1.1μm - 3.1μm2.1μm - 6.3μm5.0μm - 12.2μm5.8μm - 100μm耐溫性 = 150°c。在某些條件下，futurrex
更新時(shí)間:2025-12-26
r77-1500pynr77-3000pynr77-6000py厚度0.7μm - 2.1μm1.1μm - 3.1μm2.1μm - 6.3μm5.0μm - 12.2μm耐溫性 = 180°c。對(duì)于 nr-py 型負(fù)性光刻膠，底
更新時(shí)間:2025-12-26
pr1-1000a1pr1-2000a1pr1-4000a1pr1-12000a1厚度0.7μm - 2.1μm1.4μm - 4.2μm2.8μm - 15
更新時(shí)間:2025-12-26
負(fù)性厚光刻膠/ 歡迎來到 futurrex - 生產(chǎn)力工具 / 產(chǎn)品 / 負(fù)性光刻膠 / 負(fù)性厚刻膠厚負(fù)性光刻膠 – 減法或加法處理減材加工和模具抵抗nr5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí)，nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。增材加工抵抗nr26-12000pnr26-25000p
更新時(shí)間:2025-12-26
負(fù)性厚光刻膠/ 歡迎來到 futurrex - 生產(chǎn)力工具 / 產(chǎn)品 / 負(fù)性光刻膠 / 負(fù)性厚刻膠厚負(fù)性光刻膠 – 減法或加法處理減材加工和模具抵抗nr5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí)，nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。增材加工抵抗nr26-12000pnr26-25000
更新時(shí)間:2025-12-26
最新產(chǎn)品
- ted pella拆針器53152 2025/12/27 14:25:02
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- 醫(yī)用八腔空氣壓力波治療儀 2025/12/27 13:35:49
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- 伺服電機(jī)1784-U2DHP，安全性能高貨真價(jià)實(shí) 2025/12/27 11:21:58
- plc模塊1784-PKTCS，誠(chéng)信經(jīng)營(yíng) 2025/12/27 11:21:49
- cpu處理器1785-L60L，大量庫(kù)存 2025/12/27 11:21:40
- plc模塊1785-L60B，誠(chéng)信經(jīng)營(yíng) 2025/12/27 11:21:34
- 變頻器1785-L46C15，順豐速運(yùn) 2025/12/27 11:21:27
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