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氣體電離探測器GED
氣體電離探測器(ged)是一種用于測量氣體中金屬顆粒濃度的技術(shù),尤其適用于半導(dǎo)體行業(yè)中特殊氣體的分析。該系統(tǒng)通過一個(gè)高效的膜來交換氣體,使得樣品氣體中的金屬顆粒能在無需預(yù)處理的情況下直接引入到電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(icp-ms)中進(jìn)行高靈敏度分析。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
自動化標(biāo)準(zhǔn)添加系統(tǒng) ASAS II
asas ii自動化標(biāo)準(zhǔn)添加系統(tǒng)通過自動制備校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)溶液,提升了電感耦合等離子體(icp)分析的效率與精度。該系統(tǒng)采用非接觸式光流傳感器和高精度注射泵,實(shí)現(xiàn)微量標(biāo)準(zhǔn)溶液的精 準(zhǔn)添加。其無閥門設(shè)計(jì)及全氟聚合物材質(zhì)確保了系統(tǒng)的高效與耐用性。
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
自動進(jìn)樣稀釋模塊ASDM
自動進(jìn)樣稀釋模塊asdm專為icp自動進(jìn)樣器設(shè)計(jì),支持2至1000倍的樣品溶液稀釋,配備兩種型號以適應(yīng)不同溶液類型。該模塊可自動添加標(biāo)準(zhǔn)溶液,并能同時(shí)清洗稀釋探頭及準(zhǔn)備下一個(gè)稀釋樣品。asdm提供10ml注射器進(jìn)行2-20倍稀釋,或兩支注射器進(jìn)行50-1000倍稀釋。
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
德國Eberl 多波束電子束 OCTOPLUS 1000
德國eberl 多波束電子束 octoplus 1000, 用于大 12 英寸基底 sige 外延生長的 mbe 系統(tǒng)
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
OCTOPLUS 1000 多波束電子束
德國 eberl 的多波束電子束octoplus 1000系統(tǒng),專為最大12英寸sige外延生長設(shè)計(jì),適用于mbe(分子束外延)工藝。該系統(tǒng)提供高效、高精度的沉積技術(shù),確保高質(zhì)量薄膜的生長,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
德國Sentech 光譜反射膜厚儀 RM 2000
. 在垂直入射角的無接觸、光學(xué)反射測量,表征薄膜和大塊材料.光譜范圍從200到1000 nm. 功能強(qiáng)大的、獨(dú)特的分析軟件包ftpadv expert. 高穩(wěn)定的氘燈和鹵素鎢燈光源. 高精度的樣品準(zhǔn)直,帶光學(xué)自動準(zhǔn)直透鏡act和顯微鏡
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2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Appsilon MPCVD
appsilon荷蘭 mpcvd
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2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
UV-300HC 雙盒式裝載紫外臭氧清洗機(jī)
盒式裝載紫外線臭氧清洗設(shè)備 uv-300hc雙盒式生產(chǎn)系統(tǒng),是一款高性能的盒式裝載uv臭氧清洗機(jī),用于生產(chǎn)。這個(gè)系統(tǒng)有2個(gè)裝載盒,可以達(dá)到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的獨(dú)特組合,溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體(gan、sic、gaas和inp)、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
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2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
UV-300H 紫外臭氧清洗機(jī)
紫外線臭氧清洗機(jī) uv-300h,200 - 300 nm/min的高灰化率,是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機(jī)。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的獨(dú)特組合,可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體(gan、sic、gaas、inp)、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
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2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
UV-1 紫外線臭氧清洗機(jī)
日本samco紫外臭氧清洗機(jī) uv-1, 是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機(jī)。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺加熱獨(dú)特地結(jié)合在一起,溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體(gan、gaas、inp、sic)、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
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2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
GIA 522氣泡分析系統(tǒng)
gia 522氣泡分析系統(tǒng),用于分析玻璃、陶瓷、礦物或小型密封電子元件中的小到極小氣泡夾雜物。
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
EDA 407 水汽分析儀
eda 407專為光電子器件的質(zhì)量控制而設(shè)計(jì)■ 從密封封裝中進(jìn)行精確氣體分析■ 氣體成分的直觀分析■ 簡明易用的軟件套件■ 全自動化的氣體進(jìn)樣系統(tǒng)
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2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
XP-65 高粘度液體光學(xué)顆粒度儀
高粘度樣品用液中粒子傳感器xp-65/ks-42c(改)無需稀釋即可測量原液(可達(dá)6000 cp)。支持在線和離線測量。廣泛的可測粒徑范圍xp-65:0.2μm~1.0μm,ks-42c(改):0.5μm~20μm
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
TL-2000激光開封機(jī)
tl系列激光開封機(jī)通過激光能量的調(diào)節(jié)控制,去除封裝電子器件的塑膠層。用于觀察電子器件內(nèi)部焊線偏移,焊線交叉短路,倒裝焊焊球虛焊,倒裝焊焊球短路,焊線斷裂,焊線脫離等封裝缺陷。
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
RA-9000美RKD激光開封機(jī)
美rkd激光開封機(jī)ra-9000簡單方便進(jìn)行半導(dǎo)體塑料封裝去屑,露出基板上的引線框架。完全圖形化的使用者操作介面,簡易的進(jìn)行控制操作。輕易達(dá)成整面或定點(diǎn),平整的塑料開封作業(yè)。大量減低化學(xué)開封的用酸量及時(shí)間,並將開封成功率地大比率提升。
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
德國PVA TePla 超聲波掃描顯微鏡 SAM 301
德國pva tepla 超聲波掃描顯微鏡 sam 301, 利用材料內(nèi)部組織因密度不同而對超聲波聲阻抗、超聲波吸收與反射程度產(chǎn)生差異的特點(diǎn),從而實(shí)現(xiàn)對材料內(nèi)部缺陷的定性分析,在半導(dǎo)體封裝及材料等行業(yè)中得到廣泛應(yīng)用??煞直娉霾牧?、元器件內(nèi)部的裂紋、空洞、氣泡、分層缺陷、雜質(zhì)等;廣泛用于測試各種元器件、smt焊接器件、igbt器件、mems器件、晶圓鍵合等內(nèi)部缺陷的無損檢測
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
德國ThetaMetrisis膜厚測量儀 FR-ES
fr-es 是一款輕巧便捷的膜厚測量分析系統(tǒng), 能測量各種厚度范圍的透明和半透明涂層以及薄金屬層.fr-es 是 實(shí)驗(yàn)室里 的 理想 配置。fr-es 可以在各種光譜范圍內(nèi)執(zhí)行反射率和透射率測量。
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
超高純氫氣發(fā)生器 (免維護(hù)版柜式機(jī))HXCN-H-M0.6,HXCN-H-M1.2,HXCN-H-M5,HXCN-H-M10
超高純氫氣發(fā)生器 (免維護(hù)版柜式機(jī))hxcn-h-m0.6,hxcn-h-m1.2,hxcn-h-m5,hxcn-h-m10,采用pem技術(shù)電解純水制氫,無需用堿直接電解純水,無腐蝕無污染。 國外高 端制氫機(jī)優(yōu)先替代者 氫氣純度高(99.9999%)5個(gè)9到7個(gè)9可選,流量穩(wěn)定,壓力采用一體化的控制。
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
華欣創(chuàng)能實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 HXCN-H-S600,HXCN-H-S1200
實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 (非免維護(hù)臺式機(jī)),采用領(lǐng)先業(yè)內(nèi)pem技術(shù)電解純水制氫,無需用堿,無腐蝕無污染。 氫氣純度高99.999%,流量穩(wěn)定,壓力采用一體化的控制.
更新時(shí)間:
2025-12-27
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
華欣創(chuàng)能實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 HXCN-H-MF-S600,HXCN-H-MF-S1200
華欣創(chuàng)能實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 是一款 專為gc、總烴分析儀等小流量需求場景 設(shè)計(jì)的高效、安全制氫設(shè)備。用于gc載 氣,也可用做fid和fpd等檢測器的燃燒 氣。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
Paios 4.3Paios 載流子遷移率測量系統(tǒng) Fluxim
簡介:載流子遷移率測量系統(tǒng)paios主要用于太陽能電池在穩(wěn)態(tài),瞬態(tài)以及交流條件下的光電性能測量(載流子遷移率測量photo-celiv,瞬態(tài)光電流測量tpc、瞬態(tài)光電性能測量tpv、強(qiáng)度調(diào)制光電壓譜i
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱
桌上型hmds烘箱,小型hmds真空烤箱采用hmds涂布方法改變晶圓表面的親水性,從而增大晶圓表面的接觸角),增強(qiáng)光刻膠和晶圓的粘附力。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
硅烷沉積系統(tǒng) 硅烷氣相沉積設(shè)備 真空硅烷涂膠機(jī)
硅烷沉積系統(tǒng) 硅烷氣相沉積設(shè)備 真空硅烷涂膠機(jī)是一種用于硅烷(siih?)作為前驅(qū)體的薄膜沉積設(shè)備,主要用于半導(dǎo)體、納米壓印脫模工藝、光伏(太陽能電池)、顯示面板、玻璃、陶瓷納米材料等領(lǐng)域的材料制備。硅烷(sih?)因其高反應(yīng)性和低溫沉積特性,成為沉積非晶硅(a-si)、微晶硅(μc-si)、氮化硅(sin?)和氧化硅(sio?)等薄膜的關(guān)鍵化學(xué)品。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
烘氮?dú)夂嫦?,硬烘潔凈烘?/a>
烘氮?dú)夂嫦?,硬烘潔凈烘箱?yōu)化光刻膠的光學(xué)吸收特性,提高光刻膠對襯底的黏附性
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
多電磁鐵實(shí)驗(yàn)室矢量電磁場水冷式或風(fēng)冷磁場設(shè)備
多電磁鐵實(shí)驗(yàn)室矢量電磁場水冷式或風(fēng)冷磁場設(shè)備電磁鐵為四結(jié)構(gòu)的,軛鐵八邊形,氣隙可調(diào),柱直徑50mm,磁直徑25mm,四在同一平面;可水平或45度角放置。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
北京錦正茂科技有限公司
JH50變溫教學(xué)霍爾測試系統(tǒng)霍爾效應(yīng)教學(xué)實(shí)驗(yàn)儀器
變溫教學(xué)霍爾測試系統(tǒng)霍爾效應(yīng)教學(xué)實(shí)驗(yàn)儀器 本系統(tǒng)由jh50變溫教學(xué)霍爾測試系統(tǒng)、tesk301控溫儀、液氮恒溫器和轉(zhuǎn)向磁體四個(gè)部分組成,可完成在不同溫度條件下測量霍爾片樣品霍爾效應(yīng)的教學(xué)實(shí)驗(yàn)。該系統(tǒng)可與計(jì)算機(jī)連接,配合相應(yīng)的軟件實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)采集,也可配合我公司其他設(shè)備使用。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
北京錦正茂科技有限公司
偶聯(lián)劑涂布機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)
偶聯(lián)劑涂布機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)硅烷偶聯(lián)劑應(yīng)用方法指通過表面預(yù)處理方式,改善材料界面性能的技術(shù),其核心機(jī)制依賴于硅烷分子的水解縮合及與基材的化學(xué)鍵合作用.氣相沉積法是一種在干燥非質(zhì)子環(huán)境下實(shí)現(xiàn)硅烷單分子層沉積的關(guān)鍵技術(shù),廣泛應(yīng)用于材料表面改性、電子封裝和能源材料等領(lǐng)域.
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
智能型無塵無氧烘箱 高溫氮?dú)鉄o氧PI烤箱 PI固化爐
智能型無塵無氧烘箱 高溫氮?dú)鉄o氧pi烤箱 pi固化爐電子膠體固化:銀膠/bcb膠/光刻膠高溫固化(300-450℃)晶圓加工:退火處理、pi膜烘烤(±1℃波動精度)陶瓷燒結(jié):電子陶瓷材料無塵烘干(class100潔凈環(huán)境
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
真空存儲柜 真空干燥柜 真空氮?dú)夤?/a>
真空存儲柜 真空干燥柜 真空氮?dú)夤襁m用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體,電子產(chǎn)品(半導(dǎo)體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、金屬制品、厭氧產(chǎn)品、易氧化產(chǎn)品等
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
硅烷沉積設(shè)備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米壓印抗粘設(shè)備
硅烷沉積設(shè)備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米壓印抗粘設(shè)備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)較好的轉(zhuǎn)移,復(fù)制.
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
大學(xué)實(shí)驗(yàn)室磁場發(fā)生裝置矢量多電磁鐵
大學(xué)實(shí)驗(yàn)室磁場發(fā)生裝置矢量多電磁鐵 主要應(yīng)用于多磁環(huán)充磁、徑向梯度磁場、旋轉(zhuǎn)磁場磁導(dǎo)向等多種應(yīng)用,按用戶的使用要求設(shè)計(jì)制作,該種類型的電磁鐵能夠很好的與客戶設(shè)計(jì)的磁場平臺兼容。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
北京錦正茂科技有限公司
實(shí)驗(yàn)室矢量電磁鐵多磁場發(fā)生器
實(shí)驗(yàn)室矢量電磁鐵多磁場發(fā)生器多水冷式或風(fēng)冷、具有視野開闊、磁場強(qiáng)度高、磁場強(qiáng)度大小調(diào)節(jié)方便的特點(diǎn)
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
北京錦正茂科技有限公司
錦正茂 多電磁鐵矢量磁源發(fā)生器物理電磁學(xué)實(shí)驗(yàn)
多電磁鐵矢量磁源發(fā)生器物理電磁學(xué)實(shí)驗(yàn)在小氣隙時(shí)用于鐵氧體產(chǎn)品的充磁,與磁性樣品產(chǎn)品的磁化處理。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
北京錦正茂科技有限公司
HMDS氣相成底膜烘箱 真空HMDS氣相烘箱
hmds氣相成底膜烘箱 真空hmds氣相烘箱應(yīng)用硅片、磷化銦lnp、砷化鎵gaas、鈮酸鋰linbo?、硫化鋅zns、掩膜版、玻璃、石英片、藍(lán)寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導(dǎo)體材料等。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
DSR300-DUV紫外光電探測器DSR300-DUV
本系統(tǒng)通過193的脈沖激光器或者等離子體光源+單色儀的連續(xù)193光源,對器件的光電流響應(yīng)進(jìn)行測量,測量速度約4khz,同時(shí)通過標(biāo)準(zhǔn)探測器對激光強(qiáng)度波動進(jìn)行測量,對結(jié)果進(jìn)行校正。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
北京卓立漢光儀器有限公司
OminFluo990-DUV卓立高性能OminFluo990-DUV深紫外寬禁帶半導(dǎo)體熒光測試系統(tǒng)
深紫外超寬禁帶半導(dǎo)體熒光測試系統(tǒng),基于我司20年左右的第三代半導(dǎo)體表征測試經(jīng)驗(yàn),可以有效地對寬禁帶與超寬禁帶半導(dǎo)體材料例如aln和algan等進(jìn)行熒光激發(fā)
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
北京卓立漢光儀器有限公司
光刻膠電子束膠 PMMA 950 分辨率高 現(xiàn)貨
?產(chǎn)品名稱?pmma 950k(,分子量950,000)?類型?正性電子束光刻膠?典型膜厚?100–500 nm(依旋涂轉(zhuǎn)速與濃度調(diào)節(jié))?曝光機(jī)制?電子束誘導(dǎo)主鏈斷裂,形成可溶性低聚物?顯影液?mibk:ipa(1:3)或純mibk?分辨率??≤10 nm?(理論極限),實(shí)測可達(dá)?20–50 nm?線寬?
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
廈門芯磊貿(mào)易有限公司
S1800系列有機(jī)顯影液光刻膠高精密清晰度
?典型膜厚?0.4–2.7 μm?曝光波長?i-line(365 nm)?極限分辨率??≤0.5 μm?(500 nm)線寬,適用于高精度圖形轉(zhuǎn)移?顯影液?2.38% tmah水溶液,非有機(jī)溶劑體系?粘附性?,可直接涂布于sio?、si、金屬表面,無需額外底膠?抗蝕刻性?中等,適用于金屬剝離(lift-off)工藝,不適用于高選擇比干法蝕刻
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
廈門芯磊貿(mào)易有限公司
BCB3022-46 光刻膠 光致抗蝕劑 耐化學(xué)性能穩(wěn)定
該材料在?標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體濕法工藝流程?中,經(jīng)受?多次循環(huán)化學(xué)處理?后仍保持?結(jié)構(gòu)完整性與電絕緣性?,其化學(xué)穩(wěn)定性源于?高度交聯(lián)的芳香環(huán)聚合物網(wǎng)絡(luò)?,該結(jié)構(gòu)在高溫與強(qiáng)極性溶劑中均不發(fā)生解聚。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
廈門芯磊貿(mào)易有限公司
BCB4022-35 光刻膠 半導(dǎo)體表面活性劑 貨源充足
需求激增?:5g/6g、sic/gan功率器件、chiplet封裝推動bcb年需求增速超25%;?環(huán)保壓力?:nmp去膠溶劑受限,推動?水基bcb去除劑?研發(fā),但尚處實(shí)驗(yàn)室階段;?技術(shù)演進(jìn)?:bcb正逐步替代pspi與pi,成為封裝介電層的?黃準(zhǔn)?。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
廈門芯磊貿(mào)易有限公司
BCB3022-35 負(fù)性光刻膠 介電材料 透明度高
?bcb3022-35 屬于?熱固化型負(fù)性光刻膠?,其核心優(yōu)勢在于固化后形成?高度交聯(lián)的芳香族聚合物結(jié)構(gòu)?,賦予其的?電絕緣性、化學(xué)惰性與光學(xué)透明性?,是傳統(tǒng)聚酰亞胺(pi)和pspi的高性能替代方案。
更新時(shí)間:
2025-12-27
該公司產(chǎn)品分類:
廈門芯磊貿(mào)易有限公司
E-Beam 電子束光刻膠
e-beam 電子束光刻膠光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用
更新時(shí)間:
2025-12-26
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紫外正、負(fù)性光刻膠配套試劑RZN-6200
rzn-6200
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2025-12-26
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負(fù)性厚光刻膠NR5-8000負(fù)性厚光刻膠NR5-8000
抗nr5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí),nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。
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2025-12-26
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負(fù)性厚光刻膠
5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí),nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。
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2025-12-26
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負(fù)性蝕刻抗蝕劑
r7-250pnr7-1000pnr7-1500pnr7-3000pnr7-6000pnr5-8000厚度0.2μm - 0.6μm0.7μm - 2.1μm1.1μm - 3.1μm2.1μm - 6.3μm5.0μm - 12.2μm5.8μm - 100μm耐溫性 = 150°c。在某些條件下,futurrex
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2025-12-26
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負(fù)剝離抗蝕劑
r77-1500pynr77-3000pynr77-6000py厚度0.7μm - 2.1μm1.1μm - 3.1μm2.1μm - 6.3μm5.0μm - 12.2μm耐溫性 = 180°c。對于 nr-py 型負(fù)性光刻膠,底
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2025-12-26
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正性光刻膠
pr1-1000a1pr1-2000a1pr1-4000a1pr1-12000a1厚度0.7μm - 2.1μm1.4μm - 4.2μm2.8μm - 15
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邊珠去除器
對于正性光刻膠ebr1對于負(fù)性光刻膠ebr2
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抵制開發(fā)商
含堿金屬rd3含rd6的 tmah
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