其他產(chǎn)品及廠家
產(chǎn)品介紹：瑞士 ｆormoplast 托盤 pp7035 是一款塑料制成的托盤，適用于倉儲(chǔ)和運(yùn)輸。該托盤采用聚丙烯材料，具有耐用特性。技術(shù)參數(shù)包括標(biāo)準(zhǔn)尺寸和負(fù)載能力，適合常規(guī)倉儲(chǔ)需求。工作原理基于其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，能夠穩(wěn)定承載物品，便于叉車或手動(dòng)搬運(yùn)，提升操作效率。
更新時(shí)間:2025-12-27
主要產(chǎn)品：unigripper提供種類繁多的標(biāo)準(zhǔn)真空夾爪，適用于各種各樣的應(yīng)用。我們的標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品系列包括標(biāo)準(zhǔn)模塊系統(tǒng)（sms）、unigripper基礎(chǔ)系列以及unigripper co/light - 協(xié)作和輕量級(jí)夾爪。
更新時(shí)間:2025-12-27
德國(guó)tyroller 液壓缸 sw3 101-618 產(chǎn)品介紹根據(jù)atex，我們?yōu)槟峁┮簤汗橇希鶕?jù)您所需的功能，質(zhì)量和爆炸保護(hù)的安全性，它們是根據(jù)您的需求量身定制和量身定制的。我們的液壓系統(tǒng)要么由經(jīng)過認(rèn)證的電氣控制供電或提供。
更新時(shí)間:2025-12-27
美國(guó)wilcoxon 加速度傳感器799m地震傳感器產(chǎn)品介紹wilcoxon 799m 是一款專為 低頻振動(dòng)和地震監(jiān)測(cè) 設(shè)計(jì)的高性能加速度計(jì)，適用于工業(yè)設(shè)備狀態(tài)監(jiān)測(cè)、結(jié)構(gòu)健康監(jiān)測(cè)（shm）以及地震或微振動(dòng)檢測(cè)。其核心優(yōu)勢(shì)在于 超低頻響應(yīng)、高環(huán)境耐受性和工業(yè)級(jí)可靠性，將超靈敏的壓電加速度計(jì)、超低噪聲放大器和的電/機(jī)械隔離結(jié)合在一起，
更新時(shí)間:2025-12-27
德國(guó)hanchen 液壓缸 系列120產(chǎn)品介紹技術(shù)參數(shù)：1.孔徑 25 毫米至 300 毫米2.工作壓力高達(dá)150 bar3.對(duì)于孔徑200及以上的，高達(dá)200 bar4.圓頭圓柱設(shè)計(jì)5.各種安裝方法6.磨光和鍍鉻活塞桿7.測(cè)試壓力 ＝ 1.5 x 最大工作壓力8.可升級(jí)為傳感器技術(shù)：位置傳感器、力傳感器、接近開關(guān)等
更新時(shí)間:2025-12-27
日本rigaku x射線熒光分析儀 waferx 310, 通過x射線以大角度照射在鍍膜的硅片樣品上,產(chǎn)生鍍膜 樣品的相應(yīng)特征x射線的方法，進(jìn)而分析測(cè)量硅片樣品的 鍍膜厚度。
更新時(shí)間:2025-12-27
硅片金屬雜質(zhì)分析系統(tǒng) expert,全自動(dòng)汽車掃描系統(tǒng)與真空二次離子質(zhì)譜法（vpd-icp-ms）結(jié)合，為硅片金屬雜質(zhì)分析提供了高效的解決方案。系統(tǒng)具備多個(gè)型號(hào)，包括適用于實(shí)驗(yàn)室和工廠自動(dòng)化的expert_lab、expert_ps和expert_fab。這些系統(tǒng)支持多種掃描模式，如全掃描、徑向掃描和傾斜掃描，可實(shí)現(xiàn)從大容量蝕刻到深度輪廓測(cè)量的全 面分析。
更新時(shí)間:2025-12-27
lagm激光剝蝕多通道原子吸收光譜系統(tǒng)采用飛秒激光和電流計(jì)鏡，可精確燒蝕 300 毫米晶圓樣品，無需小型封閉腔室。系統(tǒng)配備雙注射器模型 msag_ds，支持標(biāo)準(zhǔn)加入法進(jìn)行定量分析，具備點(diǎn)和面傾斜度、輪廓及雜質(zhì)分析功能。系統(tǒng)能全自動(dòng)操作，支持多種分析模式如全掃描、斑點(diǎn)、直線、塊模式及深度剖面模式，適用于晶圓和非晶圓樣品的全 面分析。
更新時(shí)間:2025-12-27
msag金屬標(biāo)準(zhǔn)氣霧劑生成系統(tǒng)，是一種用于納米顆粒分析及直接氣體分析的重要工具，尤其適用于電感耦合等離子體質(zhì)譜法（icp-ms）。該設(shè)備能夠以0至3μl/min的速度將混合金屬標(biāo)準(zhǔn)溶液引入霧化器，確保了高靈敏度和準(zhǔn)確性。通過msgg裝置監(jiān)測(cè)icp-ms靈敏度變化，并利用鉬氣態(tài)標(biāo)準(zhǔn)作為內(nèi)標(biāo)。
更新時(shí)間:2025-12-27
csi 連續(xù)化學(xué)品檢測(cè)系統(tǒng)：化學(xué)敏感儀器監(jiān)測(cè)半導(dǎo)體晶圓廠使用的化學(xué)物質(zhì)，通過連續(xù)化學(xué)采樣檢測(cè)（csi）系統(tǒng)監(jiān)測(cè)微量金屬雜質(zhì)，以避免器件故障。系統(tǒng)采用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（icp-ms）對(duì)化學(xué)品進(jìn)行24/7的連續(xù)監(jiān)測(cè)，包括液相（lt）和氣溶膠相（at）兩種樣品運(yùn)輸方式。l
更新時(shí)間:2025-12-27
化學(xué)分析實(shí)驗(yàn)室采用連續(xù)化學(xué)采樣檢測(cè)系統(tǒng)（csi）監(jiān)測(cè)半導(dǎo)體工藝中的化學(xué)品，以檢測(cè)微量金屬雜質(zhì)。該系統(tǒng)使用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（icp-ms）進(jìn)行24/7的連續(xù)監(jiān)測(cè)，確?；瘜W(xué)品在運(yùn)輸和更換過濾器過程中不受污染。在線接口軟件（ois）控制閥門、自動(dòng)進(jìn)樣器和icp-ms，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)校準(zhǔn)和質(zhì)量控制。該系統(tǒng)能夠生成濃度和計(jì)數(shù)趨勢(shì)圖，并具備自動(dòng)重新分析功能。
更新時(shí)間:2025-12-27
氣體電離探測(cè)器（ged）是一種用于測(cè)量氣體中金屬顆粒濃度的技術(shù)，尤其適用于半導(dǎo)體行業(yè)中特殊氣體的分析。該系統(tǒng)通過一個(gè)高效的膜來交換氣體，使得樣品氣體中的金屬顆粒能在無需預(yù)處理的情況下直接引入到電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（icp-ms）中進(jìn)行高靈敏度分析。
更新時(shí)間:2025-12-27
asas ii自動(dòng)化標(biāo)準(zhǔn)添加系統(tǒng)通過自動(dòng)制備校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)溶液，提升了電感耦合等離子體（icp）分析的效率與精度。該系統(tǒng)采用非接觸式光流傳感器和高精度注射泵，實(shí)現(xiàn)微量標(biāo)準(zhǔn)溶液的精 準(zhǔn)添加。其無閥門設(shè)計(jì)及全氟聚合物材質(zhì)確保了系統(tǒng)的高效與耐用性。
更新時(shí)間:2025-12-27
自動(dòng)進(jìn)樣稀釋模塊asdm專為icp自動(dòng)進(jìn)樣器設(shè)計(jì)，支持2至1000倍的樣品溶液稀釋，配備兩種型號(hào)以適應(yīng)不同溶液類型。該模塊可自動(dòng)添加標(biāo)準(zhǔn)溶液，并能同時(shí)清洗稀釋探頭及準(zhǔn)備下一個(gè)稀釋樣品。asdm提供10ml注射器進(jìn)行2-20倍稀釋，或兩支注射器進(jìn)行50-1000倍稀釋。
更新時(shí)間:2025-12-27
德國(guó)eberl 多波束電子束 octoplus 1000, 用于大 12 英寸基底 sige 外延生長(zhǎng)的 mbe 系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-12-27
德國(guó) eberl 的多波束電子束octoplus 1000系統(tǒng)，專為最大12英寸sige外延生長(zhǎng)設(shè)計(jì)，適用于mbe（分子束外延）工藝。該系統(tǒng)提供高效、高精度的沉積技術(shù)，確保高質(zhì)量薄膜的生長(zhǎng)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-12-27
. 在垂直入射角的無接觸、光學(xué)反射測(cè)量，表征薄膜和大塊材料.光譜范圍從200到1000 nm. 功能強(qiáng)大的、獨(dú)特的分析軟件包ftpadv expert. 高穩(wěn)定的氘燈和鹵素鎢燈光源. 高精度的樣品準(zhǔn)直，帶光學(xué)自動(dòng)準(zhǔn)直透鏡act和顯微鏡
更新時(shí)間:2025-12-27
盒式裝載紫外線臭氧清洗設(shè)備 uv-300hc雙盒式生產(chǎn)系統(tǒng)，是一款高性能的盒式裝載uv臭氧清洗機(jī)，用于生產(chǎn)。這個(gè)系統(tǒng)有2個(gè)裝載盒，可以達(dá)到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的獨(dú)特組合，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、sic、gaas和inp）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2025-12-27
紫外線臭氧清洗機(jī) uv-300h，200 - 300 nm/min的高灰化率,是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機(jī)。通過滑動(dòng)抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的獨(dú)特組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、sic、gaas、inp）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2025-12-27
日本samco紫外臭氧清洗機(jī) uv-1, 是一款緊湊型臺(tái)式紫外線臭氧清洗機(jī)。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺(tái)加熱獨(dú)特地結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（gan、gaas、inp、sic）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2025-12-27
eda 407專為光電子器件的質(zhì)量控制而設(shè)計(jì)■ 從密封封裝中進(jìn)行精確氣體分析■ 氣體成分的直觀分析■ 簡(jiǎn)明易用的軟件套件■ 全自動(dòng)化的氣體進(jìn)樣系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-12-27
高粘度樣品用液中粒子傳感器xp-65/ks-42c（改）無需稀釋即可測(cè)量原液（可達(dá)6000 cp）。支持在線和離線測(cè)量。廣泛的可測(cè)粒徑范圍xp-65：0.2μm～1.0μm，ks-42c（改）：0.5μm～20μm
更新時(shí)間:2025-12-27
tl系列激光開封機(jī)通過激光能量的調(diào)節(jié)控制，去除封裝電子器件的塑膠層。用于觀察電子器件內(nèi)部焊線偏移，焊線交叉短路，倒裝焊焊球虛焊，倒裝焊焊球短路，焊線斷裂，焊線脫離等封裝缺陷。
更新時(shí)間:2025-12-27
美rkd激光開封機(jī)ra-9000簡(jiǎn)單方便進(jìn)行半導(dǎo)體塑料封裝去屑，露出基板上的引線框架。完全圖形化的使用者操作介面，簡(jiǎn)易的進(jìn)行控制操作。輕易達(dá)成整面或定點(diǎn)，平整的塑料開封作業(yè)。大量減低化學(xué)開封的用酸量及時(shí)間，並將開封成功率地大比率提升。
更新時(shí)間:2025-12-27
德國(guó)pva tepla 超聲波掃描顯微鏡 sam 301, 利用材料內(nèi)部組織因密度不同而對(duì)超聲波聲阻抗、超聲波吸收與反射程度產(chǎn)生差異的特點(diǎn)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)材料內(nèi)部缺陷的定性分析，在半導(dǎo)體封裝及材料等行業(yè)中得到廣泛應(yīng)用。可分辨出材料、元器件內(nèi)部的裂紋、空洞、氣泡、分層缺陷、雜質(zhì)等；廣泛用于測(cè)試各種元器件、smt焊接器件、igbt器件、mems器件、晶圓鍵合等內(nèi)部缺陷的無損檢測(cè)
更新時(shí)間:2025-12-27
fr-es 是一款輕巧便捷的膜厚測(cè)量分析系統(tǒng), 能測(cè)量各種厚度范圍的透明和半透明涂層以及薄金屬層.fr-es 是 實(shí)驗(yàn)室里 的 理想 配置。fr-es 可以在各種光譜范圍內(nèi)執(zhí)行反射率和透射率測(cè)量。
更新時(shí)間:2025-12-27
超高純氫氣發(fā)生器 （免維護(hù)版柜式機(jī)）hxcn-h-m0.6,hxcn-h-m1.2,hxcn-h-m5,hxcn-h-m10，采用pem技術(shù)電解純水制氫，無需用堿直接電解純水，無腐蝕無污染。 國(guó)外高 端制氫機(jī)優(yōu)先替代者 氫氣純度高(99.9999％)5個(gè)9到7個(gè)9可選，流量穩(wěn)定，壓力采用一體化的控制。
更新時(shí)間:2025-12-27
實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 （非免維護(hù)臺(tái)式機(jī)）,采用領(lǐng)先業(yè)內(nèi)pem技術(shù)電解純水制氫，無需用堿，無腐蝕無污染。 氫氣純度高99.999％，流量穩(wěn)定，壓力采用一體化的控制.
更新時(shí)間:2025-12-27
華欣創(chuàng)能實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 是一款 專為gc、總烴分析儀等小流量需求場(chǎng)景 設(shè)計(jì)的高效、安全制氫設(shè)備。用于gc載 氣，也可用做fid和fpd等檢測(cè)器的燃燒 氣。
更新時(shí)間:2025-12-27
簡(jiǎn)介：載流子遷移率測(cè)量系統(tǒng)paios主要用于太陽能電池在穩(wěn)態(tài)，瞬態(tài)以及交流條件下的光電性能測(cè)量（載流子遷移率測(cè)量photo-celiv，瞬態(tài)光電流測(cè)量tpc、瞬態(tài)光電性能測(cè)量tpv、強(qiáng)度調(diào)制光電壓譜i
更新時(shí)間:2025-12-27
桌上型hmds烘箱，小型hmds真空烤箱采用hmds涂布方法改變晶圓表面的親水性，從而增大晶圓表面的接觸角），增強(qiáng)光刻膠和晶圓的粘附力。
更新時(shí)間:2025-12-27
硅烷沉積系統(tǒng) 硅烷氣相沉積設(shè)備 真空硅烷涂膠機(jī)是一種用于硅烷（siih?）作為前驅(qū)體的薄膜沉積設(shè)備，主要用于半導(dǎo)體、納米壓印脫模工藝、光伏（太陽能電池）、顯示面板、玻璃、陶瓷納米材料等領(lǐng)域的材料制備。硅烷（sih?）因其高反應(yīng)性和低溫沉積特性，成為沉積非晶硅（a-si）、微晶硅（μc-si）、氮化硅（sin?）和氧化硅（sio?）等薄膜的關(guān)鍵化學(xué)品。
更新時(shí)間:2025-12-27
多電磁鐵實(shí)驗(yàn)室矢量電磁場(chǎng)水冷式或風(fēng)冷磁場(chǎng)設(shè)備電磁鐵為四結(jié)構(gòu)的，軛鐵八邊形，氣隙可調(diào)，柱直徑50mm，磁直徑25mm，四在同一平面；可水平或45度角放置。
更新時(shí)間:2025-12-27
變溫教學(xué)霍爾測(cè)試系統(tǒng)霍爾效應(yīng)教學(xué)實(shí)驗(yàn)儀器 本系統(tǒng)由jh50變溫教學(xué)霍爾測(cè)試系統(tǒng)、tesk301控溫儀、液氮恒溫器和轉(zhuǎn)向磁體四個(gè)部分組成，可完成在不同溫度條件下測(cè)量霍爾片樣品霍爾效應(yīng)的教學(xué)實(shí)驗(yàn)。該系統(tǒng)可與計(jì)算機(jī)連接，配合相應(yīng)的軟件實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)采集，也可配合我公司其他設(shè)備使用。
更新時(shí)間:2025-12-27
偶聯(lián)劑涂布機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)硅烷偶聯(lián)劑應(yīng)用方法指通過表面預(yù)處理方式,改善材料界面性能的技術(shù)，其核心機(jī)制依賴于硅烷分子的水解縮合及與基材的化學(xué)鍵合作用.氣相沉積法是一種在干燥非質(zhì)子環(huán)境下實(shí)現(xiàn)硅烷單分子層沉積的關(guān)鍵技術(shù)，廣泛應(yīng)用于材料表面改性、電子封裝和能源材料等領(lǐng)域.
更新時(shí)間:2025-12-27
智能型無塵無氧烘箱 高溫氮?dú)鉄o氧pi烤箱 pi固化爐電子膠體固化：銀膠/bcb膠/光刻膠高溫固化（300-450℃）晶圓加工：退火處理、pi膜烘烤（±1℃波動(dòng)精度）陶瓷燒結(jié)：電子陶瓷材料無塵烘干（class100潔凈環(huán)境
更新時(shí)間:2025-12-27
硅烷沉積設(shè)備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米壓印抗粘設(shè)備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)較好的轉(zhuǎn)移,復(fù)制.
更新時(shí)間:2025-12-27
大學(xué)實(shí)驗(yàn)室磁場(chǎng)發(fā)生裝置矢量多電磁鐵 主要應(yīng)用于多磁環(huán)充磁、徑向梯度磁場(chǎng)、旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)磁導(dǎo)向等多種應(yīng)用，按用戶的使用要求設(shè)計(jì)制作，該種類型的電磁鐵能夠很好的與客戶設(shè)計(jì)的磁場(chǎng)平臺(tái)兼容。
更新時(shí)間:2025-12-27
實(shí)驗(yàn)室矢量電磁鐵多磁場(chǎng)發(fā)生器多水冷式或風(fēng)冷、具有視野開闊、磁場(chǎng)強(qiáng)度高、磁場(chǎng)強(qiáng)度大小調(diào)節(jié)方便的特點(diǎn)
更新時(shí)間:2025-12-27
多電磁鐵矢量磁源發(fā)生器物理電磁學(xué)實(shí)驗(yàn)在小氣隙時(shí)用于鐵氧體產(chǎn)品的充磁，與磁性樣品產(chǎn)品的磁化處理。
更新時(shí)間:2025-12-27
hmds氣相成底膜烘箱 真空hmds氣相烘箱應(yīng)用硅片、磷化銦lnp、砷化鎵gaas、鈮酸鋰linbo?、硫化鋅zns、掩膜版、玻璃、石英片、藍(lán)寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導(dǎo)體材料等。
更新時(shí)間:2025-12-27
本系統(tǒng)通過193的脈沖激光器或者等離子體光源+單色儀的連續(xù)193光源，對(duì)器件的光電流響應(yīng)進(jìn)行測(cè)量，測(cè)量速度約4khz，同時(shí)通過標(biāo)準(zhǔn)探測(cè)器對(duì)激光強(qiáng)度波動(dòng)進(jìn)行測(cè)量，對(duì)結(jié)果進(jìn)行校正。
更新時(shí)間:2025-12-27
深紫外超寬禁帶半導(dǎo)體熒光測(cè)試系統(tǒng)，基于我司20年左右的第三代半導(dǎo)體表征測(cè)試經(jīng)驗(yàn)，可以有效地對(duì)寬禁帶與超寬禁帶半導(dǎo)體材料例如aln和algan等進(jìn)行熒光激發(fā)
更新時(shí)間:2025-12-27
e-beam 電子束光刻膠光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用
更新時(shí)間:2025-12-26
抗nr5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí)，nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。
更新時(shí)間:2025-12-26
最新產(chǎn)品
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