其他產(chǎn)品及廠家

連續(xù)化學(xué)采樣檢測系統(tǒng)CSI
化學(xué)分析實(shí)驗(yàn)室采用連續(xù)化學(xué)采樣檢測系統(tǒng)(csi)監(jiān)測半導(dǎo)體工藝中的化學(xué)品,以檢測微量金屬雜質(zhì)。該系統(tǒng)使用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(icp-ms)進(jìn)行24/7的連續(xù)監(jiān)測,確保化學(xué)品在運(yùn)輸和更換過濾器過程中不受污染。在線接口軟件(ois)控制閥門、自動進(jìn)樣器和icp-ms,實(shí)現(xiàn)自動校準(zhǔn)和質(zhì)量控制。該系統(tǒng)能夠生成濃度和計(jì)數(shù)趨勢圖,并具備自動重新分析功能。
更新時(shí)間:2025-12-27
氣體電離探測器GED
氣體電離探測器(ged)是一種用于測量氣體中金屬顆粒濃度的技術(shù),尤其適用于半導(dǎo)體行業(yè)中特殊氣體的分析。該系統(tǒng)通過一個(gè)高效的膜來交換氣體,使得樣品氣體中的金屬顆粒能在無需預(yù)處理的情況下直接引入到電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(icp-ms)中進(jìn)行高靈敏度分析。
更新時(shí)間:2025-12-27
自動化標(biāo)準(zhǔn)添加系統(tǒng) ASAS II
asas ii自動化標(biāo)準(zhǔn)添加系統(tǒng)通過自動制備校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)溶液,提升了電感耦合等離子體(icp)分析的效率與精度。該系統(tǒng)采用非接觸式光流傳感器和高精度注射泵,實(shí)現(xiàn)微量標(biāo)準(zhǔn)溶液的精 準(zhǔn)添加。其無閥門設(shè)計(jì)及全氟聚合物材質(zhì)確保了系統(tǒng)的高效與耐用性。
更新時(shí)間:2025-12-27
自動進(jìn)樣稀釋模塊ASDM
自動進(jìn)樣稀釋模塊asdm專為icp自動進(jìn)樣器設(shè)計(jì),支持2至1000倍的樣品溶液稀釋,配備兩種型號以適應(yīng)不同溶液類型。該模塊可自動添加標(biāo)準(zhǔn)溶液,并能同時(shí)清洗稀釋探頭及準(zhǔn)備下一個(gè)稀釋樣品。asdm提供10ml注射器進(jìn)行2-20倍稀釋,或兩支注射器進(jìn)行50-1000倍稀釋。
更新時(shí)間:2025-12-27
德國Eberl  多波束電子束 OCTOPLUS 1000
德國eberl 多波束電子束 octoplus 1000, 用于大 12 英寸基底 sige 外延生長的 mbe 系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-12-27
OCTOPLUS 1000 多波束電子束
德國 eberl 的多波束電子束octoplus 1000系統(tǒng),專為最大12英寸sige外延生長設(shè)計(jì),適用于mbe(分子束外延)工藝。該系統(tǒng)提供高效、高精度的沉積技術(shù),確保高質(zhì)量薄膜的生長,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-12-27
德國Sentech 光譜反射膜厚儀 RM 2000
. 在垂直入射角的無接觸、光學(xué)反射測量,表征薄膜和大塊材料.光譜范圍從200到1000 nm. 功能強(qiáng)大的、獨(dú)特的分析軟件包ftpadv expert. 高穩(wěn)定的氘燈和鹵素鎢燈光源. 高精度的樣品準(zhǔn)直,帶光學(xué)自動準(zhǔn)直透鏡act和顯微鏡
更新時(shí)間:2025-12-27
Appsilon MPCVD
appsilon荷蘭 mpcvd
更新時(shí)間:2025-12-27
UV-300HC 雙盒式裝載紫外臭氧清洗機(jī)
盒式裝載紫外線臭氧清洗設(shè)備 uv-300hc雙盒式生產(chǎn)系統(tǒng),是一款高性能的盒式裝載uv臭氧清洗機(jī),用于生產(chǎn)。這個(gè)系統(tǒng)有2個(gè)裝載盒,可以達(dá)到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的獨(dú)特組合,溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體(gan、sic、gaas和inp)、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2025-12-27
UV-300H 紫外臭氧清洗機(jī)
紫外線臭氧清洗機(jī) uv-300h,200 - 300 nm/min的高灰化率,是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機(jī)。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的獨(dú)特組合,可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體(gan、sic、gaas、inp)、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2025-12-27
UV-1 紫外線臭氧清洗機(jī)
日本samco紫外臭氧清洗機(jī) uv-1, 是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機(jī)。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺加熱獨(dú)特地結(jié)合在一起,溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體(gan、gaas、inp、sic)、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。
更新時(shí)間:2025-12-27
GIA 522氣泡分析系統(tǒng)
gia 522氣泡分析系統(tǒng),用于分析玻璃、陶瓷、礦物或小型密封電子元件中的小到極小氣泡夾雜物。
更新時(shí)間:2025-12-27
EDA 407 水汽分析儀
eda 407專為光電子器件的質(zhì)量控制而設(shè)計(jì)■ 從密封封裝中進(jìn)行精確氣體分析■ 氣體成分的直觀分析■ 簡明易用的軟件套件■ 全自動化的氣體進(jìn)樣系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-12-27
XP-65 高粘度液體光學(xué)顆粒度儀
高粘度樣品用液中粒子傳感器xp-65/ks-42c(改)無需稀釋即可測量原液(可達(dá)6000 cp)。支持在線和離線測量。廣泛的可測粒徑范圍xp-65:0.2μm~1.0μm,ks-42c(改):0.5μm~20μm
更新時(shí)間:2025-12-27
TL-2000激光開封機(jī)
tl系列激光開封機(jī)通過激光能量的調(diào)節(jié)控制,去除封裝電子器件的塑膠層。用于觀察電子器件內(nèi)部焊線偏移,焊線交叉短路,倒裝焊焊球虛焊,倒裝焊焊球短路,焊線斷裂,焊線脫離等封裝缺陷。
更新時(shí)間:2025-12-27
RA-9000美RKD激光開封機(jī)
美rkd激光開封機(jī)ra-9000簡單方便進(jìn)行半導(dǎo)體塑料封裝去屑,露出基板上的引線框架。完全圖形化的使用者操作介面,簡易的進(jìn)行控制操作。輕易達(dá)成整面或定點(diǎn),平整的塑料開封作業(yè)。大量減低化學(xué)開封的用酸量及時(shí)間,並將開封成功率地大比率提升。
更新時(shí)間:2025-12-27
德國PVA TePla 超聲波掃描顯微鏡 SAM 301
德國pva tepla 超聲波掃描顯微鏡 sam 301, 利用材料內(nèi)部組織因密度不同而對超聲波聲阻抗、超聲波吸收與反射程度產(chǎn)生差異的特點(diǎn),從而實(shí)現(xiàn)對材料內(nèi)部缺陷的定性分析,在半導(dǎo)體封裝及材料等行業(yè)中得到廣泛應(yīng)用??煞直娉霾牧?、元器件內(nèi)部的裂紋、空洞、氣泡、分層缺陷、雜質(zhì)等;廣泛用于測試各種元器件、smt焊接器件、igbt器件、mems器件、晶圓鍵合等內(nèi)部缺陷的無損檢測
更新時(shí)間:2025-12-27
德國ThetaMetrisis膜厚測量儀  FR-ES
fr-es 是一款輕巧便捷的膜厚測量分析系統(tǒng), 能測量各種厚度范圍的透明和半透明涂層以及薄金屬層.fr-es 是 實(shí)驗(yàn)室里 的 理想 配置。fr-es 可以在各種光譜范圍內(nèi)執(zhí)行反射率和透射率測量。
更新時(shí)間:2025-12-27
超高純氫氣發(fā)生器 (免維護(hù)版柜式機(jī))HXCN-H-M0.6,HXCN-H-M1.2,HXCN-H-M5,HXCN-H-M10
超高純氫氣發(fā)生器 (免維護(hù)版柜式機(jī))hxcn-h-m0.6,hxcn-h-m1.2,hxcn-h-m5,hxcn-h-m10,采用pem技術(shù)電解純水制氫,無需用堿直接電解純水,無腐蝕無污染。 國外高 端制氫機(jī)優(yōu)先替代者 氫氣純度高(99.9999%)5個(gè)9到7個(gè)9可選,流量穩(wěn)定,壓力采用一體化的控制。
更新時(shí)間:2025-12-27
華欣創(chuàng)能實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 HXCN-H-S600,HXCN-H-S1200
實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 (非免維護(hù)臺式機(jī)),采用領(lǐng)先業(yè)內(nèi)pem技術(shù)電解純水制氫,無需用堿,無腐蝕無污染。 氫氣純度高99.999%,流量穩(wěn)定,壓力采用一體化的控制.
更新時(shí)間:2025-12-27
華欣創(chuàng)能實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 HXCN-H-MF-S600,HXCN-H-MF-S1200
華欣創(chuàng)能實(shí)驗(yàn)室氫氣發(fā)生器 是一款 專為gc、總烴分析儀等小流量需求場景 設(shè)計(jì)的高效、安全制氫設(shè)備。用于gc載 氣,也可用做fid和fpd等檢測器的燃燒 氣。
更新時(shí)間:2025-12-27
四方儀器 甲酸分析儀 監(jiān)測真空回流焊工藝甲酸氣體濃度
甲酸分析儀采用非分光紅外(ndir)傳感器激技術(shù),可實(shí)時(shí)監(jiān)測真空回流焊工藝各關(guān)鍵點(diǎn)的甲酸氣體濃度,助力操作人員精準(zhǔn)掌控焊接質(zhì)量與設(shè)備狀態(tài),進(jìn)而優(yōu)化?藝參數(shù),確保焊接質(zhì)量的?致性與可靠性。
更新時(shí)間:2025-12-27
四方儀器 氧分析儀 應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、空氣分離、惰性氣體焊接等
氧分析儀gasboard-3053搭載高穩(wěn)定性的氧化鋯核心傳感器,覆蓋25%富氧至1ppm微量氧的全范圍測量。具有測量精度高、響應(yīng)時(shí)間快、穩(wěn)定性好等特點(diǎn),可應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、空氣分離、惰性氣體焊接等領(lǐng)域,為關(guān)鍵的過程控制應(yīng)用程序提供可靠的性能。產(chǎn)品采用緊湊型模塊化設(shè)計(jì),體積小巧,便于在復(fù)雜?況下安裝,同時(shí)配備直觀豐富的用戶界面,提供卓越的人機(jī)交互體驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-12-27
E-Beam 電子束光刻膠
e-beam 電子束光刻膠光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用
更新時(shí)間:2025-12-26
紫外正、負(fù)性光刻膠配套試劑RZN-6200
rzn-6200
更新時(shí)間:2025-12-26
負(fù)性厚光刻膠NR5-8000
抗nr5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí),nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。
更新時(shí)間:2025-12-26
負(fù)性厚光刻膠
5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí),nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。
更新時(shí)間:2025-12-26
負(fù)性蝕刻抗蝕劑
r7-250pnr7-1000pnr7-1500pnr7-3000pnr7-6000pnr5-8000厚度0.2μm - 0.6μm0.7μm - 2.1μm1.1μm - 3.1μm2.1μm - 6.3μm5.0μm - 12.2μm5.8μm - 100μm耐溫性 = 150°c。在某些條件下,futurrex
更新時(shí)間:2025-12-26
負(fù)剝離抗蝕劑
r77-1500pynr77-3000pynr77-6000py厚度0.7μm - 2.1μm1.1μm - 3.1μm2.1μm - 6.3μm5.0μm - 12.2μm耐溫性 = 180°c。對于 nr-py 型負(fù)性光刻膠,底
更新時(shí)間:2025-12-26
正性光刻膠
pr1-1000a1pr1-2000a1pr1-4000a1pr1-12000a1厚度0.7μm - 2.1μm1.4μm - 4.2μm2.8μm - 15
更新時(shí)間:2025-12-26
邊珠去除器
對于正性光刻膠ebr1對于負(fù)性光刻膠ebr2
更新時(shí)間:2025-12-26
抵制開發(fā)商
含堿金屬rd3含rd6的 tmah
更新時(shí)間:2025-12-26
抗蝕劑清除劑
性堿性溶液rr3酯基溶液rr5dmso 基溶液rr4rr41
更新時(shí)間:2025-12-26
平坦化涂層
pc43-700pc43-1500pc43-6000厚度0.6μm - 1.6μm1.1μm - 3.2μm5.0μm - 12.2μm
更新時(shí)間:2025-12-26
旋涂玻璃涂層
ic1-200dc4-500厚度0.17μm - 0.50μm0.45μm - 1.0μm
更新時(shí)間:2025-12-26
旋涂摻雜劑
c1-2000zdpc2-2000類型硼摻雜涂層磷摻雜
更新時(shí)間:2025-12-26
光刻膠 NR9-8000-光刻膠
負(fù)性厚光刻膠/ 歡迎來到 futurrex - 生產(chǎn)力工具 / 產(chǎn)品 / 負(fù)性光刻膠 / 負(fù)性厚刻膠厚負(fù)性光刻膠 – 減法或加法處理減材加工和模具抵抗nr5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí),nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。增材加工抵抗nr26-12000pnr26-25000p
更新時(shí)間:2025-12-26
負(fù)性厚光刻膠
負(fù)性厚光刻膠/ 歡迎來到 futurrex - 生產(chǎn)力工具 / 產(chǎn)品 / 負(fù)性光刻膠 / 負(fù)性厚刻膠厚負(fù)性光刻膠 – 減法或加法處理減材加工和模具抵抗nr5-8000厚度5.8μm - 100.0μm當(dāng)加工溫度 < 120°c 時(shí),nr5 系列光刻膠可在 25°c 下剝離。增材加工抵抗nr26-12000pnr26-25000
更新時(shí)間:2025-12-26
美國原裝MICROCHEM SU-8 3010 負(fù)性光刻膠
是否進(jìn)口否品牌microchem貨號su-8
更新時(shí)間:2025-12-26
美國原裝MICRO-CHEM SU-8 3050 負(fù)性光刻膠
產(chǎn)地美國型號3000是否進(jìn)口否
更新時(shí)間:2025-12-26
離子型PSPI可溶性負(fù)性光敏聚酰亞胺光刻膠
產(chǎn)品名稱離子型pspi液體含量≥99.9(%)純度99.99(%)
更新時(shí)間:2025-12-26
美國Microchem SU-8光刻膠2000 3000系列科研耗材 去膠液 顯影液
進(jìn)口否品牌microchem型號su-8
更新時(shí)間:2025-12-26
優(yōu)樂諾光刻膠CTS激光制版光刻膠
加工定制否貨號咨詢客服類型感光漿品牌ulano規(guī)格1kg/5kg
更新時(shí)間:2025-12-26
光刻膠3303H 光刻機(jī)專用感光膠
商品屬性加工定制否貨號3303h類型感光漿
更新時(shí)間:2025-12-26
美國原裝MICRO-CHEM SU-8 2002 2015 2050光刻膠
美國原裝micro-chem su-8 2002 2015 2050光刻膠
更新時(shí)間:2025-12-26
17464-88-9 光刻膠
型號hxkj151898是否進(jìn)口否產(chǎn)品名稱
更新時(shí)間:2025-12-26
定制LCD光刻膠 PCB光刻膠 厚板光刻
是否進(jìn)口否定制lcd光刻膠 pcb光刻膠 厚板光刻
更新時(shí)間:2025-12-26
光刻膠S系列Dupont集團(tuán)光刻膠S1813G
dupont集團(tuán)光刻膠
更新時(shí)間:2025-12-26
Dupont集團(tuán)光刻膠S1805 G2
dupont集團(tuán)光刻膠
更新時(shí)間:2025-12-26
Dupont集團(tuán)光刻膠S1828G2
dupont集團(tuán)光刻膠
更新時(shí)間:2025-12-26

最新產(chǎn)品

熱門儀器: 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)(PH計(jì)) 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑