光學測量儀產品及廠家
美國filmetrics 薄膜厚度測量系統(tǒng)f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)
更新時間:2025-12-29
美國 sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專為更高精度要求，更復雜元器件設計的新一代設備。echo pro™全自動超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動判別缺陷,高產量,無需人員重復設置.
更新時間:2025-12-29
德國bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經在包括制藥，食品，農業(yè)和化學行業(yè)在內的所有行業(yè)的質量控制應用中得到了很好的應用。它為耗時的濕法化學方法和色譜技術提供了一種實用的替代方法。ft-nir無破壞性，不需要樣品制備或危險化學品，使其定量和定性分析快速可靠。
更新時間:2025-12-29
德bruker光學輪廓儀contorugt-表面量測系統(tǒng)-供生產qc/qa及研發(fā)研用的非接解觸型光學輪廓儀
更新時間:2025-12-29
sentech ald實時監(jiān)測儀是一種新型的光學診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長速率，厚度，折射率)，在短時間內開發(fā)新工藝、實時研究ald循環(huán)中的反應機理是sentech ald實時監(jiān)測儀的主要應用。
更新時間:2025-12-29
美國ogp光學式坐標測量儀 zip 250 ，5:1 accucentric 電動變焦透鏡，在每次放大變倍時自動校準，可選配接觸式探頭、激光和微型探針。
更新時間:2025-12-29
100標準型接觸角測量儀，采用高性能日本原裝進口工業(yè)機芯，工業(yè)級連續(xù)變倍顯微鏡，確保圖像的真實性，獲取最佳的成像效果。
更新時間:2025-12-29
美associated 耐壓測試儀hypotmax 7710 ，是一款12 kvdc hipot測試儀，用于為電纜、電線、線束和電氣元件測試提供高直流輸出電壓。該產品非常易于使用，并為安全有效的測試提供了各種特性。它有專利smartgfi®操作,它還包括電荷lo®和斜坡嗨®系統(tǒng)。最后，該系統(tǒng)具有遠程安全聯(lián)鎖和數(shù)控電弧檢測系統(tǒng)。
更新時間:2025-12-29
montana 新型超精細多功能無液氦低溫光學恒溫器完全擺脫了液氦。完全閉循環(huán)的制冷系統(tǒng)只需要極少量的氦氣即可讓系統(tǒng)達到極限低溫。系統(tǒng)具有超快降溫、超低震動和超高的溫度穩(wěn)定性。全自動化的控制軟件，簡化了用戶的操作流程。
更新時間:2025-12-29
德國attocube磁共振顯微鏡/低溫強磁場磁共振顯微鏡attocsfm,完美集成了由完全無磁性材料制備的高數(shù)值孔徑（na）共聚焦顯微鏡與原子力顯微鏡來滿足odmr實驗的需求。
更新時間:2025-12-29
sinton少子壽命測試儀wct-120，suns-voc，硅片少子壽命測試系統(tǒng)，采用了獨特的測量和分析技術，包括準穩(wěn)定態(tài)光電導(qsspc)測量方法?？伸`敏地反映單、多晶硅片的重金屬污染及陷阱效應,表面復合效應等缺陷情況。
更新時間:2025-12-29
布魯克 dektakxt 臺階儀（探針式表面輪廓儀）設計創(chuàng)新，實現(xiàn)了更高的重復性和分辨率，垂直高度重復性高達 5å。第十代 dektakxt臺階儀（探針式表面輪廓儀）的技術突破，實現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測量，從而可以廣泛的應用于微電子器件，半導體，電池，高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學域。
更新時間:2025-12-29
日本rion液體光學顆粒度儀ks-19f,寬廣的測試范圍，可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據。
更新時間:2025-12-29
美az 總輻射度/太陽能吸收率(tesa)便攜式反射計 tesa 2000，根據astm e408測定熱發(fā)射率和空氣質量為零時的太陽吸收率(空間應用)。它緊湊，輕巧，堅固耐用，符合人體工程學設計，便于在野外或實驗室中使用。
更新時間:2025-12-29
日本rion氣體粒子計數(shù)器：kl-28b/28bf( 光散射法）,粒徑范圍（2個通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）
更新時間:2025-12-29
日本rion 液體光學顆粒度儀：ks-16/16f ( 光散射法）, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）, 粒徑范圍（5個通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm
更新時間:2025-12-29
日本rion 液體光學顆粒度儀：ks-17b ( 光散射法）,純水用，大粒子數(shù)濃度：100 000 顆/ml （誤差值低于5%），粒徑范圍（2個通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工廠定制）
更新時間:2025-12-29
日本理音rion液體光學顆粒度儀ks-19f，寬廣的測試范圍，可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據。
更新時間:2025-12-29
日本rion粒子計數(shù)器kc-24 ( 光散射法）,液體粒子計數(shù)器，可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體?？蓽y 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24
更新時間:2025-12-29
日本rion液體光學顆粒度儀ks-41a ( 光阻用），可檢測光阻產品、sog 等產品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍（4個通道，出廠默認）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm
更新時間:2025-12-29
日本rion 液體光學顆粒度儀：ks-18f ( 光散射法）液體光學顆粒度儀 ks-18f寬廣的測試范圍，可測試 0.05~0.2um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據。 可偵測到小粒徑 0.05um 的粒子
更新時間:2025-12-29
日本rion液體光學顆粒度儀ks-42a&42af ( 光散射法）,可測試 0.1~0.5um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據。
更新時間:2025-12-29
日本rion液體光學顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法）,寬廣的測試范圍，可測試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據。
更新時間:2025-12-29
日本rion液體光學顆粒度儀ks-42c ( 光散射法）,寬廣的測試范圍，可測試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據。
更新時間:2025-12-29
日本理音 rion 粒子計數(shù)器 ks-20f，檢測粒徑為0.02μm的顆粒，從0.02μm到0.08μm可達7個通道
更新時間:2025-12-29
日本rion粒子計數(shù)器kc-01e ( 光散射法）,液體粒子計數(shù)器，測試粒徑（5個通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時間:2025-12-29
日本rion粒子計數(shù)器kc-03b ( 光散射法）,測試粒徑（5個通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時間:2025-12-29
lfa 467 hyperflash 閃射法導熱儀，自由選擇測試氣氛，優(yōu)化結構設置與閃射光源，16位自動進樣器，高的測量效率，寬廣的溫度范圍，靈活配備冷卻系統(tǒng)，設計獨特，性能優(yōu)異，配備氙燈光源的，高溫測試系統(tǒng)，寬廣的溫度范圍，真空密閉爐體，確保氣氛純凈，防止氧化，內置微型管式爐，更高的測量效率，高數(shù)據采集速率- 用于薄膜與高導熱材料的解決方案
更新時間:2025-12-29
oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor
更新時間:2025-12-29
日本理學x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無損方式xrd·mapping tool有多種光學元件可選的高精度測角儀，用于氮化鎵（gan)質量管理，可對應大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時間:2025-12-29
日本理學x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無損方式xrd·mapping tool有多種光學元件可選的高精度測角儀，用于氮化鎵（gan)質量管理，可對應大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時間:2025-12-29
fr-mini 是一款緊湊型裝置，專為大學教育和研究實驗室設計，用于快速、準確和無損地表征各種不同的涂層。使用 fr-mini，用戶還可以在較寬的光譜范圍內輕松進行反射率和/或透射率測量。
更新時間:2025-12-29
fr-scanner 是一款緊湊的臺式測量工具，全自動測繪涂層的厚度，基底適用于晶圓，掩膜版及其它材料。fr-scanner 可以快速和準確地測量薄膜特性，比如厚度，折射系數(shù)，均勻性，色度等，真空吸盤可應用于任何直徑或其它形狀的樣品。
更新時間:2025-12-29
ftpadv 臺式薄膜探針反射儀臺式薄膜探針反射儀ftpadv，ftpadv是一種具有成本效益的臺式反射膜厚儀解決方案，它具有非常快速的厚度測量。在100毫秒以內進行測量，其精度低于0.3nm，膜厚范圍在50 nm -25 μm。為了便于分光反射測量操作，該儀器包括了范圍廣泛的預定配方。
更新時間:2025-12-29
ftpadv expert 綜合薄膜測量軟件，光譜反射測量軟件ftpadv expert是專門為測量和分析r(λ)和t(λ)而設計的。用于確定各種材料的薄膜厚度、消光系數(shù)或折射率的光譜數(shù)據分析，這些參數(shù)都被加載到sentech光譜反射測量軟件中，使得能夠根據cauchy色散、drude振蕩給出的參數(shù)描述和擬合材料。
更新時間:2025-12-29
mdpinline 光伏測量儀器，一秒內完成正片晶片掃描。mdpinline是為高速自動掃描硅晶片而設計的，它以每片不到一秒的時間記錄少子壽命的全部形貌。利用微波檢測光電導率定量測量少子壽命。憑借其緊湊的設計，mdpinline可以靈活地集成在傳送帶上或晶片分選系統(tǒng)中。
更新時間:2025-12-29
mdpinline ingot 光伏測量儀器，多晶形貌少子壽命測量系統(tǒng)是為高產量生產用戶而設計的。對于一個面，以1毫米的分辨率，無接觸、無破壞地測量電阻率和少子壽命花費不到一分鐘。電阻率和導電類型變化的自動掃描可用于質量控制和監(jiān)測爐子性能。面可以自動轉動，以便測量所有的四個側面。
更新時間:2025-12-29
mdpinline ingot 光伏測量儀器，多晶形貌少子壽命測量系統(tǒng)是為高產量生產用戶而設計的。對于一個面，以1毫米的分辨率，無接觸、無破壞地測量電阻率和少子壽命花費不到一分鐘。電阻率和導電類型變化的自動掃描可用于質量控制和監(jiān)測爐子性能。面可以自動轉動，以便測量所有的四個側面。
更新時間:2025-12-29
德國sentech激動掃描系統(tǒng)mdppro,少子壽命測量儀器的特征在于以1mm分辨率對500mm的一個面在不到4分鐘內完成掃描。電阻率和少子壽命的測量完全無觸摸。利用微波檢測光電導率(mdp)同時測量少子壽命、光電導率、電阻率和p/n導電類型的變化。
更新時間:2025-12-29
sensol是sentech光伏產品組合中的自動大面積掃描儀器。自動表征膜厚、薄層電阻、霧度、反射和透射的均勻性。使用sensol，可以監(jiān)測大型玻璃基板上的沉積過程的均勻性，從而可以顯著減少儀器維護后重新開始生產的時間。
更新時間:2025-12-29
senperc pv 是perc電池制造質量控制的創(chuàng)新解決方案。senperc pv 測量al2o3/sinx堆疊層和用于鈍化perc電池的單層膜。監(jiān)測沉積過程的穩(wěn)定性。由此，可以優(yōu)化維護時間間隔。
更新時間:2025-12-29
德國sentech光伏測量儀器mdpspot，具有成本效益的臺式少子壽命測試儀mdpspot可用于表征晶片或面。它為少子壽命測量提供了一個測量點。 低成本桌面式壽命測量系統(tǒng)，用于手動操作表征不同制備階段的各種不同硅樣品?？蛇x的手動操作z軸用于厚度多達156毫米的樣品。標準軟件可輸出可視化的測量結果。
更新時間:2025-12-29
薄膜反射和透射的在線監(jiān)測系統(tǒng) rt inline 反射率、透射率和膜厚的高速在線測量是rt inline的設計特點。傳感器頭陣列掃描薄膜在大型玻璃基板上的反射和/或透射，作為內部參考測量。利用ftpadv expert軟件可以方便地進行層沉積過程的在線監(jiān)測。軟件接口可用于與主機的數(shù)據通信。
更新時間:2025-12-29
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