theoris x302h主要用于12英寸1000℃-1200℃高溫和超高溫氧化和退火工藝。該機(jī)臺為立式單腔爐管系統(tǒng),工藝處理過程實(shí)現(xiàn)了高度自動化。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、電源柜等部分組成。theoris x302p主要用于12英寸600℃-1000℃氧化及退火工藝。該機(jī)臺為立式單腔爐管系統(tǒng),工藝處理過程實(shí)現(xiàn)了高度自動化。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、電源柜等部分組成。
更新時間:2025-12-23